专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：光刻设备及装置的制造方法专利类型：发明专利
发明人：B·A·J·卢蒂克休斯,E·R·卢普斯特拉,H·K·范德肖
特,F·M·雅格布斯
申请号：CN200710005707.1申请日：20070213公开号：CN101021691A公开日：20070822
摘要：在第一侧使用第一夹持装置，在不同于第一侧的第二侧使用第二夹持装置来夹持光刻设备中的掩模。优选使用薄膜片施加夹持力。第一夹具沿平行于构图装置的平面的方向、垂直于构图装置的平面的方向并可旋转地夹持衬底。第二夹持装置仅沿平行于衬底的平面的方向夹持构图装置。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰费尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中国专利代理()有限公司
更多信息请下载全文后查看
