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专利名称：基板处理装置专利类型：实用新型专利发明人：山下永二
申请号：CN201521071182.8申请日：20151221公开号：CN2052681U公开日：20160525
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置，包括：搬送机构，从搬送方向的上游侧朝向下游侧搬送基板；处理液喷出喷嘴，对由搬送机构朝向下游侧搬送的基板的表面喷出处理液；及处理液供给部，对处理液喷出喷嘴供给处理液，搬送机构包括：第1搬送辊，具有沿与基板的搬送方向正交的方向配置有多个的圆板状构件；及第2搬送辊，具有沿正交方向延伸的圆筒状构件，第2搬送辊是从自处理液喷出喷嘴对基板的表面喷出处理液的喷出位置朝下游侧连续地配设有多个，第1搬送辊是在连续地配设有多个的第2搬送辊的下游侧邻接地配设。由此能抑制基板表面不均。
申请人：株式会社思可林集团
地址：日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1
国籍：JP
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
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