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可垂直校准像面与光轴的变倍显微颗粒轨迹方法与装置[发明专利]

来源:五一七教育网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:可垂直校准像面与光轴的变倍显微颗粒轨迹方法与

装置

专利类型:发明专利发明人:毛帅,申晋,王雅静申请号:CN201810165151.0申请日:20180227公开号:CN1083874A公开日:20180810

摘要:可垂直校准像面与光轴的变倍显微颗粒轨迹方法与装置属于纳米颗粒粒径测量领域,本发明将姿态调节台、光纤式激光头、CCD探测器和转接固定板组成了成像端单元,该成像端单元通过转接固定板可固定在长方体基板侧面,也可固定在与位移运动台连接的六自由度微动调节台上;光纤式激光头的所输出的高斯光束入射进能测量入射光束单位方向向量的双光斑位置探测单元;位移台运动至不同位置,凸透镜与CCD探测器可在不同放大倍率下观察和测量纳米颗粒运动轨迹;通过得到的光束方向向量指导六自由度微动调节台对位移引起的成像端单元姿态改变进行姿态回位调节,保证光轴与CCD探测器成像面垂直的同时,还能得到在不同位移位置时的显微放大倍率。

申请人:山东理工大学

地址:255086 山东省淄博市高新技术开发区高创园A座313室

国籍:CN

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