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专利名称：一种清理装置及晶体生长炉专利类型：实用新型专利发明人：付秀梅,彭锐敏申请号：CN202021394861.X申请日：20200715公开号：CN212560518U公开日：20210219
摘要：本实用新型提供了一种清理装置及晶体生长炉，涉及清洁工具技术领域。清理装置包括第一磁力件、第二磁力件及第三磁力件；第一磁力件和第二磁力件隔晶体生长炉的双层玻璃观察窗的内层玻璃相互吸附，第三磁力件和第二磁力件隔晶体生长炉的双层玻璃观察窗的外层玻璃相互吸附。晶体生长炉安装有上述的清理装置，上述的清理装置对晶体生长炉的双层玻璃观察窗上的炉内挥发物和双层玻璃内滋生的青苔等物质进行清理，便于操作者观察晶体生长炉内的晶体生长情况，从而控制晶体生长炉内晶体的生长。
申请人：成都东骏激光股份有限公司
地址：611600 四川省成都市蒲江县鹤山镇工业开发区
国籍：CN
代理机构：北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：梁韬
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