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专利名称：制造反射镜元件的方法专利类型：发明专利
发明人：H.恩基希,P.休伯,S.斯特罗贝尔申请号：CN201580004334.9申请日：20150129公开号：CN105917255A公开日：20160831
摘要：本发明涉及一种制造反射镜元件，尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法。根据本发明的方法包含以下步骤：提供基板
(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961)和在所述基板上形成层堆叠
(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，其中，形成层堆叠进行为使得反射镜元件的预定操作温度想要的期望曲率通过层堆叠施加的弯曲力产生，其中，在形成层堆叠之前，基板具有的曲率偏离反射镜元件的所述期望曲率，以及其中，由层堆叠施加的弯曲力至少部分通过进行改变层堆叠的层应力的后处理来产生。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
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