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TFT背板结构及其制作方法

来源:五一七教育网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN201410444171.3 (22)申请日 2014.09.02

(71)申请人 深圳市华星光电技术有限公司

地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号

(10)申请公布号 CN104241298B

(43)申请公布日 2017.11.10

(72)发明人 吕晓文;曾志远;苏智昱;张合静 (74)专利代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所

代理人 林才桂

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

TFT背板结构及其制作方法

(57)摘要

本发明提供一种TFT背板结构及其制

作方法。该TFT背板结构具有开关TFT(T1)与驱动TFT(T2),所述开关TFT(T1)由第一源\\漏极(61)、第一栅极(21)及夹在二者之间的第一蚀刻阻挡层(51)、第一氧化物半导体层(41)与第一栅极绝缘层(31)构成,所述驱动TFT(T2)由第二源\\漏极(62)、第二栅极(22)及夹在二者之间的第二蚀刻阻挡层(52)、第二氧化物半导体层(42)与第二栅极绝缘层(32)构成驱动TFT(T2),所述第一栅极绝缘层(21)与第二栅极绝缘层(22)的材料不同或

厚度不同,从而所述开关TFT(T1)与所述驱动TFT(T2)的电特性不同。 法律状态

法律状态公告日

2014-12-24 2014-12-24 2015-01-14 2015-01-14 2017-11-10

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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