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专利名称：一种用于加工半导体样品的系统专利类型：实用新型专利发明人：兰·安德鲁·马克思韦尔申请号：CN201190000532.5申请日：20110330公开号：CN203055871U公开日：20130710
摘要：本申请涉及一种用于加工半导体样品的系统。一种用于加工半导体样品的系统，该系统包括光致发光成像设备和激光加工装置，其中光致发光成像设备包含：采用预定照度照射样品以响应照射从样品产生光致发光的照射光源；采集从样品发射的光致发光的至少一个图像的图像采集设备；和处理至少一个图像以获得关于样品中存在的或激光加工步骤在样品中引起的缺陷的信息的处理器；并且其中激光加工装置包括：对样品实施激光加工步骤的激光器；和控制激光器的控制器。该系统能够例如用于R&D环境以优化激光加工步骤，或用于太阳能电池生产线中激光加工步骤的在线实时工艺控制或质量控制。
申请人：BT成像股份有限公司
地址：澳大利亚新南威尔士
国籍：AU
代理机构：北京康信知识产权代理有限责任公司
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