您好,欢迎来到五一七教育网。
搜索
您的当前位置:首页相变化记忆体及其制造方法[发明专利]

相变化记忆体及其制造方法[发明专利]

来源:五一七教育网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:相变化记忆体及其制造方法专利类型:发明专利发明人:苏水金

申请号:CN201510944666.7申请日:20151216公开号:CN105428529A公开日:20160323

摘要:本发明揭露一种相变化记忆体及其制造方法。相变化记忆体包含主动元件、下电极、第一绝缘层、上电极、弓形加热器以及环状相变化层。下电极耦接主动元件,第一绝缘层位于下电极上方,而上电极位于第一绝缘层上方。弓形加热器嵌于第一绝缘层中,而环状相变化层则围绕第一绝缘层与上电极,且环状相变化层接触弓形加热器的一侧面。由于弓形加热层与环状相变化层之间的接触面积很小,因此相变化记忆体的重置电流很低。

申请人:宁波时代全芯科技有限公司,英属维京群岛商时代全芯科技有限公司

地址:315195 浙江省宁波市鄞州工业园区(鄞州区姜山镇新张俞村)

国籍:CN

代理机构:北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人:徐金国

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容

Copyright © 2019- 517ttc.cn 版权所有 赣ICP备2024042791号-8

违法及侵权请联系:TEL:199 18 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com

本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务