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专利名称：表面处理装置专利类型：发明专利
发明人：黑泽龙一,高城富美男,小枝周史,大谷和史,荒川克治申请号：CN200410085730.2申请日：20040930公开号：CN1604286A公开日：20050406
摘要：表面处理装置1构造为当对基片10的背面101执行表面处理时保持基片10。所述表面处理装置1包括：至少一个封闭空间，每个封闭空间都由凹入部分32和基片10的正面102限定；以及O形环2(接触部分)，适于与基片10的正面102密封，以与O形环2和基片10的正面102协作而产生负压。所述表面处理装置1如此构造，通过使减压室中的封闭空间减压，然后将基片从减压室的内部取出到大气压力下的环境中，使得基片利用负压和大气压力之差吸到表面处理装置1上。
申请人：精工爱普生株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：宋合成
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