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专利名称：一种刻蚀设备专利类型：实用新型专利
发明人：马风柱,曾议锋,李兴光,刘家桦,叶日铨申请号：CN201922166627.5申请日：20191205公开号：CN211062693U公开日：20200721
摘要：本实用新型提供了一种刻蚀设备，包括：刻蚀腔室，供晶圆容置其中；以及遮挡装置，所述遮挡装置可移动地设置于所述刻蚀腔室内，能够分别在所述晶圆之外的主刻蚀工位和在所述晶圆上方的边缘刻蚀工位停留,当所述遮挡装置停留在所述边缘刻蚀工位时，所述遮挡装置能够对所述晶圆表面用于形成器件结构的中心区域进行遮挡，而露出所述晶圆的外缘区域，通过遮挡装置的设置，将主刻蚀功能和边缘刻蚀功能集成于同一刻蚀设备，降低了制造成本的同时，提高了晶圆的刻蚀制程效率。
申请人：德淮半导体有限公司
地址：223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
国籍：CN
代理机构：上海立群专利代理事务所(普通合伙)
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