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专利名称：一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法专利类型：发明专利
发明人：周云,陈林森,叶燕,浦东林,申溯,周小红,魏,解正
东
申请号：CN200810156773.3申请日：20080926公开号：CN101377555A公开日：20090304
摘要：本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
申请人：苏州大学,苏州苏大维格数码光学有限公司
地址：215123 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
国籍：CN
代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人：陶海锋
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